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產(chǎn)品展示

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TMC研究級(jí)光學(xué)平臺(tái)
TMC研究級(jí)光學(xué)平臺(tái) TMC的光學(xué)平臺(tái)和隔振系統(tǒng)采用全鋼結(jié)構(gòu)，具有市場(chǎng)上最高的芯密度和最小的蜂窩單元面積，可提供業(yè)界*先的性能和剛性。 CleanTop性能系列具有三個(gè)阻尼性能級(jí)別以及適用于各種應(yīng)用的多種配置選項(xiàng)。各個(gè)工作臺(tái)甚至可以機(jī)械連接，以便在不損失阻尼性能的情況下創(chuàng)建復(fù)雜的剛性工作臺(tái)形狀。

更新時(shí)間：2024-11-22
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主動(dòng)消振系統(tǒng)
Stage-Base 450是專(zhuān)為帶高精度電動(dòng)X-Y平臺(tái)的高級(jí)半導(dǎo)體工具而設(shè)計(jì)的主動(dòng)消振系統(tǒng)。這些工具不但需要極其有效的消振性能，它們還要求由平臺(tái)引起的有效載荷運(yùn)動(dòng)能夠非常快速地穩(wěn)定，以最大限度地提高工具吞吐量。

更新時(shí)間：2024-11-22
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氣浮綜合性主動(dòng)隔振系統(tǒng)
氣浮綜合性主動(dòng)隔振系統(tǒng) LaserTable-Base™是現(xiàn)有光學(xué)平臺(tái)隔振技術(shù)的一大飛躍。通常，光學(xué)平臺(tái)由低頻氣動(dòng)隔振系統(tǒng)支撐。雖然在隔離高頻方面非常有效，但這些被動(dòng)系統(tǒng)實(shí)際上放大了關(guān)鍵的1至3 Hz范圍內(nèi)的振動(dòng)。

更新時(shí)間：2024-11-22
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SEM主動(dòng)隔振平臺(tái)
SEM主動(dòng)隔振平臺(tái) SEM-Base-LP采用了我們*特的STACIS壓電技術(shù)，具有與我們的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)SEM-Base-VI相同的振動(dòng)消除性能。SEM-Base-LP包括腳輪，專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用于與許多賽默飛世爾科技（前身為FEI）工具集成。

更新時(shí)間：2024-11-22
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SEM主動(dòng)隔振平臺(tái)
SEM主動(dòng)隔振平臺(tái) SEM-Base®VI是下一代STACIS主動(dòng)壓電消振產(chǎn)品。SEM-Base VI被設(shè)計(jì)用于支撐所有商用掃描電子顯微鏡（SEM）以及許多聚焦離子束（FIB）和小型雙光束儀器。SEM-Base VI具有更好的隔振性能、更快、更強(qiáng)大的控制器和高級(jí)圖形用戶(hù)界面（GUI）。SEM-Base VI使許多實(shí)驗(yàn)室和設(shè)施達(dá)到了滿(mǎn)足工具制造商規(guī)格所需的地面振動(dòng)水平。

更新時(shí)間：2024-11-22
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TMC地面式主動(dòng)隔振光學(xué)平臺(tái)
TMC地面式主動(dòng)隔振光學(xué)平臺(tái)，對(duì)于傳統(tǒng)的實(shí)驗(yàn)室地面，隔離高大工具的建筑地面振動(dòng)是一個(gè)人體工程學(xué)領(lǐng)域的挑戰(zhàn)。將隔振器直接放置在工具下方可能會(huì)將工具抬高到一個(gè)不切實(shí)際的高度。此外，傳統(tǒng)空氣隔振器放置在一個(gè)較高、上重下輕的有效載荷之下時(shí)不穩(wěn)定。

更新時(shí)間：2024-11-22
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TMC地面式主動(dòng)隔振平臺(tái)
TMC地面式主動(dòng)隔振平臺(tái) 采用STACIS - TMC業(yè)界*先的主動(dòng)壓電消振技術(shù)、“硬安裝”設(shè)計(jì)和始于0.6 Hz的隔振與內(nèi)置隔振器的工具兼容。模塊化、定制和重新定位的靈活性 - 每個(gè)平臺(tái)都根據(jù)客戶(hù)的應(yīng)用量身定做，但與混凝土平臺(tái)不同，如果工具或地面特性發(fā)生變化，這些平臺(tái)可以很容易地重新進(jìn)行配置。

更新時(shí)間：2024-11-22
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TMC主動(dòng)隔振平臺(tái)
TMC主動(dòng)隔振平臺(tái) STACIS IIIc是STACIS III高級(jí)主動(dòng)隔振系統(tǒng)的緊湊型版本。它在減小的高度下提供了同樣出色的隔振性能。 STACIS IIIc非常適合在沒(méi)有或地板很低的活動(dòng)地板上使用，因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)STACIS III系統(tǒng)的高度會(huì)使儀器過(guò)高。

更新時(shí)間：2024-11-22
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